ESC静電チャックは半導体製造分野のコアウェハクランプ装置であり、その基本原理は静電吸着である。それは高電圧を印加することによって静電場を形成し、そしてクーロン力あるいはジョンソン-ラベック力によってウエハの非接触固定を実現し、プラズマエッチング、イオン注入、薄膜堆積などの真空プロセスに不可欠な重要な部品である。
この製品は非磁性条件と10℃の超高真空を含む劣悪なプロセス環境に適している⁻⁵ Pa以下、ウエハ、サファイア、ガラス等の各種誘電体を安定して吸着することができる。それは双極、多極と交差指型電極のカスタム設計を支持し、吸着表面の全体平面度精度は1μm以内に達し、平行度は5μmより優れている。標準吸着電圧下で、吸着力≧10 N、残留吸着力は60%以上24時間保持し、長時間安定したクランプ効果を保持することができる。
構造と性能の面では、ESC静電チャックは窒化アルミニウムや窒化シリコンなどの高熱伝導セラミック薄膜でコーティングされ、優れた耐プラズマ腐食性と機械的強度が結合されている。一部のハイエンド製品はマルチゾーン温度制御電極と裏面ヘリウムガス冷却システムを集積し、ウェハ温度の正確かつ均一な調整を実現し、熱応力によるウェハの反りや薄膜堆積の不均一を回避した。同時に、その吸着力分布は均一で、局所的な応力点がなく、超薄ウエハや精密光学素子などの割れやすい材料の表面完全性を効果的に保護し、機械的なクランプによる傷や変形の問題を解消することができる。
現在、ESC静電チャックはすでに超大規模集積回路製造装置の核心部品となり、ウエハ計量、電子ビームリソグラフィー、半導体チップパッケージなどの技術に広く応用されている。また、電極の数、平面度仕様、外形寸法などのパラメータは、8インチや12インチなどの異なる仕様のウェハの加工シーンに対応するように、プロセス要件に応じてカスタマイズすることができます。